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創(chuàng)寶來(lái)芯資訊：光刻機(jī)之戰(zhàn)
發(fā)布時(shí)間：2023/5/24
航空發(fā)動(dòng)機(jī)一直被譽(yù)為人類頂尖工業(yè)皇冠上的明珠。但最近十年，不斷挑戰(zhàn)物理學(xué)極限的半導(dǎo)體光刻機(jī)，大有挑戰(zhàn)明珠之王的趨勢(shì)。
航發(fā)是在極端高溫高壓下挑戰(zhàn)材料和能量密度的極限，而光刻是在比頭發(fā)絲還細(xì)千倍的地方挑戰(zhàn)激光波長(zhǎng)和量子隧穿的極限。
更難得的是，和低可靠性的航天高科技不同，航發(fā)和光刻的可靠性也是人類驕傲之花：前者保證了每天十萬(wàn)架飛機(jī)在天空安全翱翔，后者在全球工廠每秒鐘刻出上千億個(gè)晶體管分毫不差。
2000年，成立15年當(dāng)時(shí)排名世界第二的荷蘭ASML(阿斯麥)公司已經(jīng)成功占領(lǐng)韓國(guó)和臺(tái)灣市場(chǎng)，但還在琢磨怎么賣光刻機(jī)給那時(shí)芯片的絕對(duì)霸主英特爾(Intel)。
缺乏新一代157nm激光需要配置的反折射鏡頭技術(shù)也是讓ASML焦慮的地方。同時(shí)，在美國(guó)能源部和幾大芯片巨頭合建的EUV光刻聯(lián)盟里，ASML還只是個(gè)小配角。
這時(shí)下一代光刻技術(shù)發(fā)展會(huì)怎樣，整個(gè)半導(dǎo)體屆沒(méi)有人知道。
在轉(zhuǎn)折關(guān)頭，ASML決定另辟蹊徑，報(bào)價(jià)16億美元收購(gòu)市值只有10億的硅谷集團(tuán)(SVG)。曾經(jīng)輝煌的SVG當(dāng)時(shí)在光刻機(jī)的市場(chǎng)份額只有不到8%，年?duì)I業(yè)額只有2.7億美元，而且193nm產(chǎn)品水平還遠(yuǎn)不如ASML。所以華爾街認(rèn)為ASML買貴了，ASML股價(jià)當(dāng)天暴跌7.5%。
然而從后來(lái)的結(jié)果看，ASML等于花錢(qián)買了光刻機(jī)行業(yè)最值錢(qián)的門(mén)票：英特爾的vendor code，同時(shí)搖晃了尼康(Nikon)的支柱。此外，SVG擁有最成熟的157nm光學(xué)技術(shù)，等于ASML買了一個(gè)技術(shù)雙保險(xiǎn)，這點(diǎn)后面會(huì)再詳述。
不過(guò)，別以為西方人都是一家子。這次收購(gòu)仍遭到美國(guó)政府和商會(huì)的阻撓，美國(guó)國(guó)防部審查說(shuō)ASML董事長(zhǎng)在一個(gè)曾經(jīng)違反禁令偷偷賣夜視鏡給伊拉克的荷蘭公司當(dāng)過(guò)董事。
中國(guó)公司的老對(duì)手美國(guó)外國(guó)投資委員會(huì)最終在收購(gòu)協(xié)議上加了一堆條件，其中包括不許收購(gòu)SVG負(fù)責(zé)打磨鏡片的子公司Tinsley，以及保證各種技術(shù)和人才留在美國(guó)。
這些條件反而讓ASML順理成章地成為了半個(gè)美國(guó)公司，享受到美國(guó)強(qiáng)勁的基礎(chǔ)科學(xué)帶來(lái)的巨大好處，為多年后在EUV一支獨(dú)秀做了有力的鋪墊。
光刻機(jī)的原理其實(shí)像幻燈機(jī)一樣簡(jiǎn)單，就是把光通過(guò)帶電路圖的掩膜(Mask，后來(lái)也叫光罩)投影到涂有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻，掩膜版是1:1尺寸緊貼在晶圓片上，而那時(shí)晶圓也只有1英寸大小。
因此，光刻那時(shí)并不是高科技，半導(dǎo)體公司通常自己設(shè)計(jì)工裝和工具，比如英特爾開(kāi)始是買16毫米攝像機(jī)鏡頭拆了用。只有GCA, K&S和Kasper等很少幾家公司有做過(guò)一點(diǎn)點(diǎn)相關(guān)設(shè)備。
60年代末，日本的尼康和佳能開(kāi)始進(jìn)入這個(gè)領(lǐng)域，畢竟當(dāng)時(shí)的光刻不比照相機(jī)復(fù)雜。
70年代初，光刻機(jī)技術(shù)更多集中在如何保證十個(gè)甚至更多個(gè)掩膜版精準(zhǔn)地套刻在一起。Kasper儀器公司首先推出了接觸式對(duì)齊機(jī)臺(tái)并領(lǐng)先了幾年，Cobilt公司做出了自動(dòng)生產(chǎn)線，但接觸式機(jī)臺(tái)后來(lái)被接近式機(jī)臺(tái)所淘汰，因?yàn)檠谀ず凸饪棠z多次碰到一起太容易污染了。
1973年，拿到美國(guó)軍方投資的Perkin Elmer公司推出了投影式光刻系統(tǒng)，搭配正性光刻膠非常好用而且良率頗高，因此迅速占領(lǐng)了市場(chǎng)。
1978年，GCA推出真正現(xiàn)代意義的自動(dòng)化步進(jìn)式光刻機(jī)(Stepper)，分辨率比投影式高5倍達(dá)到1微米。這個(gè)怪怪的名字來(lái)自于照相術(shù)語(yǔ)Step and Repeat，這臺(tái)機(jī)器通俗點(diǎn)說(shuō)把透過(guò)掩膜的大約一平方厘米的一束光照在晶圓上，曝光完一塊挪個(gè)位置再刻下一塊。由于剛開(kāi)始Stepper生產(chǎn)效率相對(duì)不高，Perkin Elmer在后面很長(zhǎng)一段時(shí)間仍處于主導(dǎo)地位。
光刻機(jī)是個(gè)小市場(chǎng)，一年賣幾十臺(tái)的就算大廠了。因?yàn)榘雽?dǎo)體廠商就那么多，一臺(tái)機(jī)器又能用好多年。這導(dǎo)致你的機(jī)器落后一點(diǎn)，就沒(méi)人愿意買了。技術(shù)領(lǐng)先是奪取市場(chǎng)的關(guān)鍵，贏家通吃。
80年代一開(kāi)始，GCA的Stepper還稍微領(lǐng)先，但很快尼康發(fā)售了自己首臺(tái)商用Stepper NSR-1010G，擁有更先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)極大提高了產(chǎn)能。兩家一起擠壓了其它廠商的份額，尤其是Perkin Elmer的投影式光刻。P&E的市場(chǎng)份額從80年超過(guò)3成快速跌到84年不到5%。
看過(guò)我寫(xiě)的《內(nèi)存的故事》的朋友都知道，80年代是日本半導(dǎo)體最風(fēng)光的時(shí)候，本土幾乎每家大公司大財(cái)閥都進(jìn)入了半導(dǎo)體業(yè)。這給尼康和佳能雙雄帶來(lái)巨大的后盾，并開(kāi)始反攻美國(guó)市場(chǎng)。
由于GCA的鏡片組來(lái)自蔡司，不像尼康自己擁有鏡頭技術(shù)，合作的問(wèn)題使得GCA產(chǎn)品更新方面一直落后了半拍。1982年，尼康在硅谷設(shè)立尼康精機(jī)，開(kāi)始從GCA手里奪下一個(gè)接一個(gè)大客戶：IBM、Intel、TI、AMD等。
到了1984年，尼康已經(jīng)和GCA平起平坐，各享三成市占率。Ultratech占約一成，Eaton、P&E、佳能、日立等剩下幾家每家都不到5%。
為什么我們要特地看1984年呢？
首先我們致敬一下蘋(píng)果，震撼世界的廣告《1984》發(fā)布了第一代Mac(我現(xiàn)在打字電腦的老祖宗)。然后，請(qǐng)出我們故事的主角：ASML。
ASML被廣為傳播成是飛利浦分離的出來(lái)的，雖然不能說(shuō)不對(duì)，但是和大家想象的那樣子還是不同的。
飛利浦在實(shí)驗(yàn)室里研發(fā)出stepper的原型，但是不夠成熟。因?yàn)楣饪淌袌?chǎng)太小，飛利浦也不能確認(rèn)它是否有商業(yè)價(jià)值，去美國(guó)和P&E、GCA、Cobilt、IBM等談了一圈沒(méi)人愿意合作。
有家荷蘭小公司叫ASM International的老板Arthur Del Prado聽(tīng)說(shuō)了有這么回事，主動(dòng)要求合作。但這家代理出身的公司只有半導(dǎo)體前后道的經(jīng)驗(yàn)，對(duì)光刻其實(shí)不太懂，等于算半個(gè)天使投資加半個(gè)分銷商。
飛利浦猶豫了一年時(shí)間，最后勉強(qiáng)同意了設(shè)立50:50的合資公司。1984年4月1日ASML成立的時(shí)候，只有31名員工，在飛利浦大廈外面的木板簡(jiǎn)易房里工作。
ASML最早成立時(shí)的簡(jiǎn)易平房，后面的玻璃大廈是飛利浦。Credit: ASML
ASML在頭一年只賣出一臺(tái)stepper，第二年賣出四臺(tái)。第一代產(chǎn)品不夠成熟，但是背靠飛利浦大樹(shù)的各種資源和容忍讓它生存了下來(lái)。
ASML在1985年和蔡司(Zeiss)合作改進(jìn)光學(xué)系統(tǒng)，終于在1986年推出非常棒的第二代產(chǎn)品PAS-2500，并第一次賣到美國(guó)給當(dāng)時(shí)的創(chuàng)業(yè)公司Cypress，今天的Nor Flash巨頭。
有意思的是，1986年半導(dǎo)體市場(chǎng)大滑坡（比如光三星半導(dǎo)體就虧了3億美元），導(dǎo)致美國(guó)一幫光刻機(jī)廠商都碰到嚴(yán)重的財(cái)務(wù)問(wèn)題。ASML還小，所以損失不大，還可以按既有計(jì)劃開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品。同期，GCA和P&E的新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)都停滯了下來(lái)。
1988年GCA資金嚴(yán)重匱乏被General Signal收購(gòu)，又過(guò)了幾年GCA找不到買主被關(guān)閉。General Signal旗下另外一家Ultratech最終被MBO，但是規(guī)模也不大了。1990年，P&E光刻部也支撐不下去被賣給SVG。
1980年還占據(jù)大半壁江山的美國(guó)三雄，到80年代末地位完全被日本雙雄取代。這時(shí)ASML還只有大約10%的市場(chǎng)占有率。
忽略掉美國(guó)被邊緣化的SVG、Ultratech等公司，90年代一直到現(xiàn)在的格局，一直是ASML和尼康的競(jìng)爭(zhēng)，佳能在旁邊看熱鬧。
所以我們要開(kāi)始講一點(diǎn)點(diǎn)技術(shù)了。
半導(dǎo)體領(lǐng)域的原生驅(qū)動(dòng)力是摩爾定律。摩爾定律其實(shí)應(yīng)該被叫做摩爾預(yù)言，這個(gè)預(yù)言中間還改過(guò)一次。戈登摩爾博士1965年最早的預(yù)言是集成電路密度每年翻倍，而1975年他自己改成每?jī)赡攴丁?/span>
有人說(shuō)，這是人類歷史上最偉大的“自我實(shí)現(xiàn)的預(yù)言”，因?yàn)橛⑻貭柧褪钦罩@個(gè)預(yù)言一路狂奔數(shù)十年，直到光刻技術(shù)被卡在193nm上十多年變成網(wǎng)友說(shuō)的“牙膏廠”。
為了實(shí)現(xiàn)摩爾定律，光刻技術(shù)就需要每?jī)赡臧哑毓怅P(guān)鍵尺寸(CD)降低30%-50%。根據(jù)瑞利公式：CD=k1*(λ/NA)，我們能做的就是降低波長(zhǎng)λ，提高鏡頭的數(shù)值孔徑NA，降低綜合因素k1。
搞更短的波長(zhǎng)是最直接的手段。90年代前半期，光刻開(kāi)始使用波長(zhǎng)365nm i-line，后半期開(kāi)始使用248nm的KrF激光。激光的可用波長(zhǎng)就那么幾個(gè)，00年代光刻開(kāi)始使用193nm波長(zhǎng)的DUV激光，這就是著名的ArF準(zhǔn)分子激光，包括近視眼手術(shù)在內(nèi)的多種應(yīng)用都應(yīng)用這種激光，相關(guān)激光發(fā)生器和光學(xué)鏡片等都比較成熟。
但誰(shuí)也沒(méi)想到，光刻光源被卡在193nm無(wú)法進(jìn)步長(zhǎng)達(dá)20年。直到今天，我們用的所有手機(jī)電腦主芯片仍舊是193nm光源光刻出來(lái)的。
90年代末，科學(xué)家和產(chǎn)業(yè)界提出了各種超越193nm的方案，其中包括157nm F2激光，電子束投射(EPL)，離子投射(IPL)、EUV(13.5nm)和X光，并形成了以下幾大陣營(yíng)：
157nm F2：每家都研究，但SVG和尼康離產(chǎn)品化最近。
157nm光會(huì)被現(xiàn)有193nm機(jī)器用的鏡片吸收，光刻膠也要重新研制，所以改造難度極大，而對(duì)193nm的波長(zhǎng)進(jìn)步只有不到25%，研發(fā)投入產(chǎn)出比太低。ASML收購(gòu)SVG后獲取了反射技術(shù)，2003年終于出品了157nm機(jī)器，但錯(cuò)過(guò)時(shí)間窗口完敗于低成本的浸入式193nm。
13.5nm EUV LLC：英特爾，AMD，摩托羅拉和美國(guó)能源部。ASML、英飛凌和Micron后來(lái)加入。
關(guān)于EUV，我放到后面在說(shuō)吧。
1nm 接近式X光：日本陣營(yíng)(ASET, Mitsubishi, NEC, Toshiba, NTT)和 IBM
這算是個(gè)浪漫陣營(yíng)吧，大家就沒(méi)想過(guò)產(chǎn)業(yè)化的事
0.004nm EBDW或EPL: 朗訊Bell實(shí)驗(yàn)室，IBM，尼康。ASML和應(yīng)用材料被邀請(qǐng)加入后又率先退出。
這是尼康和ASML對(duì)決的選擇，尼康試圖直接跨越到未來(lái)技術(shù)擊敗ASML，但可惜這個(gè)決戰(zhàn)應(yīng)該發(fā)生在2020年而不是2005年，尼康沒(méi)有選錯(cuò)技術(shù)但是選錯(cuò)了時(shí)間。尼康最重要的技術(shù)盟友IBM在2001年也分心加入了EUV聯(lián)盟。
0.00005nm IPL: 英飛凌、歐盟。ASML和萊卡等公司也有參與。
離子光刻從波長(zhǎng)來(lái)看是最浪漫的，然而光刻分辨率不光由波長(zhǎng)決定，還要看NA。人類現(xiàn)有科技可用離子光刻的光學(xué)系統(tǒng)NA是0.00001，比193nm的NA=0.5～1.5剛好差10萬(wàn)倍，優(yōu)勢(shì)被抵消了。
以上所有努力，幾乎全部失敗了。
它們敗給了一個(gè)工程上最簡(jiǎn)單的解決辦法，在晶圓光刻膠上方加1mm厚的水。水可以把193nm的光波長(zhǎng)折射成134nm。
浸入式光刻成功翻越了157nm大關(guān)，直接做到半周期65nm。加上后來(lái)不斷改進(jìn)的高NA鏡頭、多光罩、FinFET、Pitch-split、波段靈敏的光刻膠等技術(shù)，浸入式193nm光刻機(jī)一直做到今天的7nm(蘋(píng)果A12和華為麒麟980)。
2002年臺(tái)積電的林本堅(jiān)博士在一次研討會(huì)上提出了浸入式193nm的方案，隨后ASML在一年的時(shí)間內(nèi)就開(kāi)發(fā)出樣機(jī)，充分證明了該方案的工程友好性。
隨后，臺(tái)積電也是第一家實(shí)現(xiàn)浸入式量產(chǎn)的公司，隨后終于追上之前制程技術(shù)遙遙領(lǐng)先的英特爾，林博士因此獲得了崇高的榮譽(yù)和各種獎(jiǎng)項(xiàng)。
MIT的林肯實(shí)驗(yàn)室似乎不服氣，他們認(rèn)為自己在2001年就提出了這個(gè)浸入式方案。ASML似乎也沒(méi)有在任何書(shū)面說(shuō)明自己開(kāi)發(fā)是受林博士啟發(fā)。
其實(shí)油浸鏡頭改變折射率的方式由來(lái)已久，產(chǎn)業(yè)界爭(zhēng)論是誰(shuí)的想法在先從來(lái)不重要，行勝于言。林博士的貢獻(xiàn)是臺(tái)積電和ASML通力合作把想法變成了現(xiàn)實(shí)。
在ASML推出浸入式193nm產(chǎn)品的前后腳，尼康也宣布自己的157nm產(chǎn)品以及EPL產(chǎn)品樣機(jī)完成。然而，浸入式屬于小改進(jìn)大效果，產(chǎn)品成熟度非常高，所以幾乎沒(méi)有人去訂尼康的新品。尼康被迫隨后也宣布去做浸入式光刻機(jī)。
之前我們提到光刻領(lǐng)域是贏家通吃，新產(chǎn)品總是需要至少1-3年時(shí)間由前后道多家廠商通力磨合。別人比你早量產(chǎn)就比你多了時(shí)間去改善問(wèn)題和提高良率。
光刻機(jī)就像印鈔機(jī)，材料成本可以忽略不計(jì)，而時(shí)間就像金子一樣珍貴。
半導(dǎo)體廠商更愿意去買成熟的ASML產(chǎn)品，不想去給尼康當(dāng)白鼠。
這導(dǎo)致后面尼康的大潰敗。尼康在2000年還是老大，但到了2009年ASML已經(jīng)市占率近7成遙遙領(lǐng)先。尼康新產(chǎn)品的不成熟，也間接關(guān)聯(lián)了大量使用其設(shè)備的日本半導(dǎo)體廠商的集體衰敗。
佳能在光刻領(lǐng)域一直沒(méi)爭(zhēng)過(guò)老大。當(dāng)年它的數(shù)碼相機(jī)稱霸世界利潤(rùn)很好，對(duì)一年銷量只有百來(lái)臺(tái)的光刻機(jī)重視不夠。
佳能的思路是一款產(chǎn)品要賣很久，他們一看193nm尼康和ASML打得太厲害就直接撤了。直到現(xiàn)在佳能還在賣350nm和248nm的產(chǎn)品，給液晶面板以及模擬器件廠商供貨。
尼康在浸入式一戰(zhàn)敗下來(lái)就徹底沒(méi)有還手之力了，因?yàn)榻酉聛?lái)EUV的開(kāi)發(fā)需要投入巨資而且前景未卜，英特爾倒向ASML使得尼康失去了挑戰(zhàn)摩爾定律的勇氣。
接下來(lái)，我們?cè)僬f(shuō)說(shuō)EUV。這個(gè)產(chǎn)品其實(shí)是ASML在沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的情況下研發(fā)的，而且做了十多年到今天也沒(méi)有量產(chǎn)。
那它背后的驅(qū)動(dòng)力是什么呢？我看了一些文獻(xiàn)，英特爾絕對(duì)是最堅(jiān)定的支持者，因?yàn)樗氖姑痪褪亲屇柖勺呦氯ァ?/span>
早在1997年，英特爾看到挑戰(zhàn)193nm的巨大難度，決心集合人類精英一起愚公移山，有點(diǎn)流浪地球的意思。他們說(shuō)服了美國(guó)對(duì)高科技最開(kāi)明的克林頓內(nèi)閣，以公司形式發(fā)起了EUV LLC這樣的一個(gè)合作組織。
這個(gè)組織由英特爾和美國(guó)能源部牽頭，集合了當(dāng)時(shí)還如日中天的摩托羅拉以及AMD，以及享有盛譽(yù)的美國(guó)三大國(guó)家實(shí)驗(yàn)室：勞倫斯利弗莫爾實(shí)驗(yàn)室，勞倫斯伯克利實(shí)驗(yàn)室和桑迪亞國(guó)家實(shí)驗(yàn)室，投資兩億美元集合幾百位頂級(jí)科學(xué)家，從理論上驗(yàn)證EUV可能存在的技術(shù)問(wèn)題。
英特爾還力邀ASML和尼康加入EUV LLC，因?yàn)楫?dāng)時(shí)美國(guó)光刻已經(jīng)不太行了。但此舉受到美國(guó)政府的阻撓，因?yàn)樗麄兩岵坏米屚鈬?guó)公司分享美國(guó)最前沿技術(shù)。
最終結(jié)果是尼康被排除在外，ASML做了一堆對(duì)美國(guó)貢獻(xiàn)的許諾后被允許加入。另外一家例外的非美國(guó)公司是英飛凌，它被允許和Micron一起加入EUV LLC。
我們回看當(dāng)年各種跨越193nm的技術(shù)方案，很多公司是左右下注的，只有英特爾堅(jiān)定地選了EUV，而且讓它最終成為了現(xiàn)實(shí)。
看當(dāng)年的一些回憶錄，說(shuō)英特爾自己并未派出多少工程師，但是列了幾百項(xiàng)難題一直拿著小鞭子督促那些科學(xué)家不停地努力。
EUV算是軟X光，穿透物體時(shí)散射吸收都非常厲害，這使得光刻機(jī)需要非常非常強(qiáng)的光源，這個(gè)難度是巨大的。連空氣都能吸收EUV，所以機(jī)器內(nèi)部還得做成真空的。
傳統(tǒng)光刻用的很多透鏡因?yàn)闀?huì)吸收X光要換成反射鏡，據(jù)說(shuō)193nm的最新光刻機(jī)里鏡頭加起來(lái)就有一噸重，而這些技術(shù)都用不上了。
由于光刻精度是幾納米，EUV對(duì)光的集中度要求極高，相當(dāng)于拿個(gè)手電照到月球光斑不超過(guò)一枚硬幣。反射要求的鏡子要求長(zhǎng)30cm起伏不到0.3nm，這相當(dāng)于是北京到上海做根鐵軌起伏不超過(guò)1毫米。
所以，EUV不僅是頂級(jí)科學(xué)的研究，也是頂級(jí)精密制造的學(xué)問(wèn)。
EUV的小鏡子由德國(guó)蔡司生產(chǎn)，ASML還因此特地購(gòu)買了Carl Zeiss SMT公司24.5%的股份。
1997年-2003年，6年間EUV LLC的科學(xué)家發(fā)表了幾百篇論文，驗(yàn)證了EUV光刻機(jī)的可行性。然后EUV LLC聯(lián)盟解散。
接下來(lái)留給ASML一個(gè)問(wèn)題，是做還是不做呢？
好在ASML從來(lái)沒(méi)有猶豫過(guò)。2006年它推出原型，2007年建造了10000平米的超級(jí)無(wú)塵室，等著接待2010年誕生的第一臺(tái)研發(fā)用樣機(jī)：NXE3100。
2012年，ASML請(qǐng)英特爾、三星和臺(tái)積電入股自己，希望大家共同承擔(dān)這個(gè)人類的偉大工程，因?yàn)檠邪l(fā)投入需要每年10億歐元。
2015年，可量產(chǎn)的樣機(jī)發(fā)布。雖然售價(jià)高達(dá)1.2億美元一臺(tái)，但還是收到雪片一樣的訂單。排隊(duì)等交貨，都要等好幾年。
一臺(tái)EUV光刻機(jī)重達(dá)180噸，超過(guò)10萬(wàn)個(gè)零件，需要40個(gè)集裝箱運(yùn)輸，安裝調(diào)試都要超過(guò)一年時(shí)間。
2020年，我們已經(jīng)能買到EUV加工出來(lái)的芯片做的手機(jī)了。
相信在未來(lái)，人類一定可以突破光學(xué)光刻機(jī)的極限，無(wú)論用電子離子還是最終放棄硅基。但是，就在剛寫(xiě)完文章的現(xiàn)在，我只想衷心為這些偉大的公司喝彩。
需要強(qiáng)調(diào)的是，在半導(dǎo)體制造中，光刻只是其中的一個(gè)環(huán)節(jié)，另外還有無(wú)數(shù)先進(jìn)科技用于前后道工藝。
正是因?yàn)樗麄儾磺粨系呐?，才使得我們?cè)谶@個(gè)一切由芯片驅(qū)動(dòng)的偉大時(shí)代，享受著各種手機(jī)、電腦、家電、汽車飛機(jī)和互聯(lián)網(wǎng)帶給我們的精彩生活。